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系統識別號 U0026-2711201900052400
論文名稱(中文) 藉由高壓退火及微波退火提升半導體汲極,源極特性之研究
論文名稱(英文) Studies on improving the performance on the source/drain of semiconductor by high pressure annealing and microwave annealing
校院名稱 成功大學
系所名稱(中) 電機工程學系
系所名稱(英) Department of Electrical Engineering
學年度 108
學期 1
出版年 108
研究生(中文) 郭泰辰
研究生(英文) Tai-Chen Kuo
學號 N28044012
學位類別 博士
語文別 英文
論文頁數 120頁
口試委員 指導教授-李文熙
口試委員-洪茂峰
口試委員-王永和
口試委員-洪昭南
口試委員-劉全璞
召集委員-王英郎
口試委員-張鼎張
口試委員-Michael Ira Current
中文關鍵字
學科別分類
論文目次
參考文獻
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