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系統識別號 U0026-2408202021360000
論文名稱(中文) 優化銅鍍膜的濺鍍條件與鍍膜除去用於化學氣相沈積法合成免轉置石墨烯
論文名稱(英文) Optimizing the Deposition and Removal Process of Catalytic Metal Films for the Chemical Vapor Deposition Synthesis of Transfer-Free Graphene
校院名稱 成功大學
系所名稱(中) 化學系
系所名稱(英) Department of Chemistry
學年度 108
學期 2
出版年 109
研究生(中文) 丁芳祺
研究生(英文) Fang-Chi Ding
學號 L36074207
學位類別 碩士
語文別 中文
論文頁數 107頁
口試委員 指導教授-陳巧貞
口試委員-楊伯康
口試委員-李權倍
中文關鍵字
學科別分類
論文目次
參考文獻
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