| 系統識別號 |
U0026-2108201921104600 |
| 論文名稱(中文) |
高介電係數介電層/矽鍺介面之探討與矽鍺鰭式電晶體之研製 |
| 論文名稱(英文) |
Investigation of High-k Dielectrics/SiGe Interface for SiGe FinFETs Fabrication
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| 校院名稱 |
成功大學 |
| 系所名稱(中) |
微電子工程研究所 |
| 系所名稱(英) |
Institute of Microelectronics |
| 學年度 |
107 |
| 學期 |
2 |
| 出版年 |
108 |
| 研究生(中文) |
李俊翰 |
| 研究生(英文) |
Jyun-Han Li |
| 學號 |
Q16064066 |
| 學位類別 |
碩士 |
| 語文別 |
英文 |
| 論文頁數 |
74頁 |
| 口試委員 |
指導教授-王永和
口試委員-洪茂峰
口試委員-李耀仁
口試委員-蘇俊榮
口試委員-江德光
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| 中文關鍵字 |
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| 學科別分類 |
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| 論文目次 |
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| 參考文獻 |
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| 論文全文使用權限 |
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