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系統識別號 U0026-2108201921104600
論文名稱(中文) 高介電係數介電層/矽鍺介面之探討與矽鍺鰭式電晶體之研製
論文名稱(英文) Investigation of High-k Dielectrics/SiGe Interface for SiGe FinFETs Fabrication
校院名稱 成功大學
系所名稱(中) 微電子工程研究所
系所名稱(英) Institute of Microelectronics
學年度 107
學期 2
出版年 108
研究生(中文) 李俊翰
研究生(英文) Jyun-Han Li
學號 Q16064066
學位類別 碩士
語文別 英文
論文頁數 74頁
口試委員 指導教授-王永和
口試委員-洪茂峰
口試委員-李耀仁
口試委員-蘇俊榮
口試委員-江德光
中文關鍵字
學科別分類
論文目次
參考文獻
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