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系統識別號 U0026-2008202015392800
論文名稱(中文) 利用旋轉塗佈法製備高熵高介電常數的(Al, Ti, V, Zr, Hf)Ox 薄膜並應用於先進閘極堆疊元件
論文名稱(英文) Spin Coating Synthesis of High-entropy High-k (Al, Ti, V, Zr, Hf)Ox Films for Advanced Gate Stacks
校院名稱 成功大學
系所名稱(中) 材料科學及工程學系
系所名稱(英) Department of Materials Science and Engineering
學年度 108
學期 2
出版年 109
研究生(中文) 黃則緯
研究生(英文) Ze-Wei Huang
學號 N56074457
學位類別 碩士
語文別 英文
論文頁數 78頁
口試委員 指導教授-張高碩
口試委員-丁志明
口試委員-葉均蔚
口試委員-阮至正
口試委員-蘇彥勳
中文關鍵字
學科別分類
論文目次
參考文獻
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