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系統識別號 U0026-2006201517463200
論文名稱(中文) 運用TRIZ改善氧化銦錫薄膜製程 提升直流式真空濺鍍機台能力
論文名稱(英文) Capability Enhancement of the DC Magnetron Sputter Machine by Applying TRIZ to Improve Indium Tin Oxide Film Manufacturing Process
校院名稱 成功大學
系所名稱(中) 工程管理碩士在職專班
系所名稱(英) Institute of Engineering Management (on the job class)
學年度 103
學期 2
出版年 104
研究生(中文) 郭全興
研究生(英文) Chuan Hsing Kuo
學號 N07011371
學位類別 碩士
語文別 中文
論文頁數 68頁
口試委員 指導教授-邵揮洲
口試委員-楊大和
口試委員-陳澤生
口試委員-洪郁修
中文關鍵字 萃智  氧化銦錫薄膜  氧化銦錫薄膜破裂不良  直流式真空濺鍍  加熱器 
英文關鍵字 TRIZ  Contradiction Matrix  Indium Tin Oxide (ITO)  ITO Crack Deterioration  DC Magnetron Sputter  Heater 
學科別分類
中文摘要 面對台灣面板廠商面臨全球顯示器持續成長,帶動次世代面板廠商持續投入在新工廠設備,也讓原本的舊世代工廠需面臨高階製程產品導入與轉型,因此如何提升製程能力及提升舊機台能力就變的非常重要。
本研究提出運用萃智理論的矛盾理論,推論找出解決工廠在高階面板氧化銦錫薄膜製程不良造成的客訴問題,定義製程改善参數與惡化參數,之後再以40項創新原則求解,已達到直流式真空濺鍍最佳化的機台工程參數降低氧化銦錫薄膜破裂不良率,並重複運用萃智理論創新思維提升改造直流式真空濺鍍機台能力,已增加工廠的競爭力。
期望藉由萃智研究方法透過改善氧化銦錫薄膜真空製程能力,協助同樣面臨工廠轉型過程中,有效率縮短製程工程師對應問題時獨立求解能力,能更有效率的決解生產中面臨的工程問題,未來相信以此方法持續進行改善,不管是新產品開發或機台改造都能想出創新方法解決,只有不斷的精進提升能力保持彈性的經營模式,公司才能持續成長。
英文摘要 Taiwan panel manufacturers are now facing the circumstance that the global monitor industry is continuously growing as the driving power to urge the next-generation panel manufacturers to make more investments in the new facilities while the old-generation ones need to face the introduction of high-order product and the transformation of the enterprises. Therefore, it’s getting important to upgrade the manufacturing process and the old equipment.
This study found the solution to customer claims caused by the defective ITO (Indium Tin Oxide) film process in the plant by using the contradiction matrix of TRIZ and also strengthened the manufacturer competitiveness by the following steps. Firstly, it defined the improvement and deterioration parameters, and then found the engineering parameters of the optimal operation of the DC magnetron sputter machine to decrease the defective rate of cracks for ITO (Indium Tin Oxide) film process by applying inventive principles. In the end, the innovative thinking of TRIZ was repeatedly applied to reform and enhance the capability of the DC magnetron sputter machine.
With the relevant research methods of TRIZ to improve the capability of ITO vacuum process, it is expected this study can assist the process engineers dealing with similar problems become independent and quick solution-providers who can solve any engineering problem with which they confront in the manufacturing process. In future, it’s believed no matter it is new product development or equipment renovation, both will be answered by innovative method. Only with the ceaseless upgrading ability to keep flexible business model shall an enterprise keep growing.
論文目次 目錄
摘要................. I
Extended Abstract ............... II
誌謝.................. VI
表目錄.................. IX
圖目錄................. X
中英文縮寫對照................ XII
第1章 緒論............... 1
1.1 研究背景與動機.............. 1
1.2 研究目的............... 1
1.3 研究範圍與限制.............. 2
1.4 研究流程............... 2
第2章 氧化銦錫薄膜製程基本原理............ 4
2.1 薄膜電晶體液晶顯示器面板架構及製程.......... 4
2.2 彩色濾光片之結構簡介............ 7
2.3 真空濺鍍原理及氧化銦錫薄膜特性.......... 10
2.3.1 真空濺鍍原理 ............. 10
2.3.2 氧化銦錫薄膜特性及應用 ........... 12
2.3.3 真空濺鍍設備主要製程 ........... 13
第3章 研究方法.............. 17
3.1 萃智解決問題的模式............ 18
3.2 九宮格思考法.............. 19
3.3 萃智解決矛盾性問題工具-技術矛盾、物理矛盾........ 20
3.3.1 技術矛盾 ............... 20
3.3.2 物理矛盾 ............... 25
VIII
3.4 萃智解決矛盾性問題工具-物質-場分析 ........ 27
3.5 田口實驗設計方法.............. 29
第4章 氧化銦錫薄膜製程不良改善方法.......... 30
4.1 氧化銦錫薄膜破裂關鍵指標的解析.......... 30
4.1.1 細線幅品、保護膜品 ........... 31
4.1.2 何為色暈不良?.............. 33
4.1.3 氧化銦錫薄膜破裂問題要因分析-魚骨圖 ....... 33
4.2 萃智的創新思維方式-九宮格運用.......... 34
4.2.1 萃智方法應用:技術矛盾解題 ........... 35
4.2.2 萃智方法應用:物理矛盾解題 ........... 39
4.3 加熱器應用實例導入............ 44
4.3.1 直流式真空濺鍍機台加熱器增設原理 ......... 45
4.3.2 加熱器增設施工 ............. 45
4.3.3 測試最佳化參數-加熱器增設及驗證結果 ....... 47
4.3.4 加熱器導入成效確認 ........... 48
第5章 結論與建議.............. 49
5.1 結論............... 49
5.2 未來研究建議.............. 50
參考文獻................ 51
附錄一 39X39矛盾矩陣表 ............. 54
附錄二 40項創新法則表 ............ 60
參考文獻 參考文獻
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