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系統識別號 U0026-0408201111034800
論文名稱(中文) 半導體廠廠務超純水系統設計流程管理研究
論文名稱(英文) Study on Facility Ultra Pure Water System Design Flow Management of IC Fab
校院名稱 成功大學
系所名稱(中) 工學院工程管理碩士在職專班
系所名稱(英) Institute of Engineering Management
學年度 99
學期 2
出版年 100
研究生(中文) 蕭嘉榮
研究生(英文) Chia-Jung Hsiao
學號 n0797105
學位類別 碩士
語文別 中文
論文頁數 83頁
口試委員 口試委員-蕭飛賓
口試委員-楊大和
指導教授-邵揮洲
中文關鍵字 超純水設計  專案管理  知識分享 
英文關鍵字 Ultra pure water design  Project management  Knowledge sharing 
學科別分類
中文摘要 由於晶圓廠的投資金額甚鉅,而電子產品的生命週期既短暫又注重時效。所以一旦決定了晶圓廠的興建計劃,企業無不盡可能地壓縮建廠時程,以期在最短的時間回收投資成本。而在環環相扣的建廠工程管理上,最先進行的流程即是各項建廠規劃及設計;其適當與否,將會反應在施工品質與進度上,在日後的運轉亦影響重大,例如系統改善,擴充…等。因此,設計階段扮演著火車頭的角色,牽一髮而動全身,必須正確且快速的達成及產出,以利後續各階段流程得以流暢的進行。
本研究目的是針對半導體廠務超純水系統的設計需求,以結構化,系統化的分析其流程及整理各階段所應著重之各項重點。並期能成為新進工程人員所依循的規範,了解超純水系統專案管理的脈絡,達到知識分享之目的。本研究分為兩大部份:(1)針對超純水系統製造流程的分析與探討,以了解半導體超純水製程上的各處理設施,及其所對應的物理/化學方法之原理和目的。(2)超純水系統設計流程管理:說明工程設計流程各階段所需注意事項,如:土木結構設計,桶槽設計,配管設計,電力設計,儀控設計...等。
本研究將晶圓製造廠超純水流程一以貫之的加以敘述,以了解現今超純水常見之製造流程,並提出各處理製造元件所需注意的事項,以期在設計階段便能妥善考量避免錯誤。設計除了是正確的呼應質、量的需求之外,同時也需滿足運轉操作事務的便利與流暢;而同時良好的設計也是建造成功的關鍵之一。工程範疇,期程,成本是專案成功的三要素,良好正確的設計可以避免多餘成本(材料,工資,工時)的支出及保有工程建造的流暢度,例如:不適當的規格開立可能造成取得成本提高或交期上的延遲。
此外,研究包含對超純水系統設計流程進行分析與探討之外,並將所提出的事項,以表例或圖示的方式整理及說明設計方面的工程知識及經驗。藉此初步達成知識分享的階段,期望後續資料的補充及綜整,而進一步達成知識管理、乃至於知識管理系統的目標。
英文摘要 Due to huge investment on Foundry manufacturing, and products life cycles of electronics is rush and do concern the timing. Therefore, once decision of foundry construction had made, company would squeeze the schedule as much as possible to shorten the time of investment return. Among the chain-linked process of factory buildup engineering management, the very first is planning and design, which will soon reflect on construction quality and schedule regarding to proper or not and also affect future operation, such as system improvement, expansion…etc. Therefore, the design stage plays a role of locomotive, like the butterfly effect, the design output must be correct and rapid to make following steps proceed smoothly.
This study focused on the semiconductor facility design requirements for ultra-pure water (UPW) system, with a structured, systematic analysis of the process and summarized the key points of different stages. And it can be the norms to help new engineer to understand the ultra-pure water system project management context; to achieve the purpose of knowledge sharing. This study is divided into two parts: (1) producing process for ultrapure water system analysis and discussion in order to understand the process of semiconductor ultrapure water in all treatment facilities, and the corresponding physical / chemical methods of the principles and objectives. (2) ultrapure water system design process management: description of the various stages of engineering design process considerations, such as: civil structure design, tank design, piping design, electrical design, instrumentation and control design ... and so on.
This study described IC foundry UPW process from A to Z, to understand nowadays manufacturing process; also implied each sub-system’s memorandum to prevent faults during design stage. Design is to accurately meet requirement of quantity/quality, and also to fit convenience, smoothness of operation. Besides, well design is the key to succeed construction. Scope, Schedule, Cost are 3 essential factors of successful project. Accurate design can prevent from extra cost (material, wage, time) and keep smoothness of construction work, such as, improper specification requisition may result in higher cost or delay of delivery.
In addition to this study included analysis and discussion of the ultrapure water system design process, it also sorted and described the engineering knowledge and experience of design phases by schemes or tables of examples shown in this study. To reach a preliminary stage of knowledge sharing, and to expect that integrating more data and information to achieve the goal of setting up knowledge management (KM), even knowledge management system (KMS).
論文目次 摘要 I
ABSTRACT III
誌謝 V
表目錄 X
圖目錄 XI
第一章 緒論 1
1.1 研究背景與動機 1
1.2 研究範圍與目的 2
1.3 研究步驟 4
第二章 超純水系統製造流程探討 6
2.1 半導體超純水水質指標 6
2.1.1 一般原水之組成物質 6
2.1.2 原水水質分析 7
2.1.3 使用端(晶圓製造設備)要求水質 8
2.1.4 系統耗用水量 10
2.2 半導體超純水製造流程 11
2.2.1 多層過濾塔 13
2.2.2 活性碳塔 14
2.2.3 陽/陰離子樹脂交換塔 15
2.2.4 脫碳酸塔 16
2.2.5 逆滲透 17
2.2.6 紫外線 20
2.2.7 陰陽離子樹脂分層交換塔 20
2.2.8 脫氧膜 21
2.2.9 精餾樹脂交換塔 23
2.2.10 超濾膜 24
2.3 超純水處理系統功能vs.水質指標 26
第三章 超純水系統設計流程管理 28
3.1 專案時程vs.設計時程 28
3.2 發包前計劃項目 30
3.2.1 設計基準 30
3.2.2 一般需求 32
3.2.3 機械需求 33
3.2.4 配管需求 34
3.2.5 配管管支撐需求 36
3.2.6 電力及儀控需求 37
3.2.7 其他需求 39
3.3 發包後設計流程 40
3.3.1 基本設計 41
3.3.2 細部設計 43
第四章 超純水系統設計流程知識分享 65
4.1 超純水系統設計流程知識分享的概念及目的 65
4.2 超純水系統設計流程知識分享 66
4.3 EAR/Best Practice/Lesson Learnt/Punch List 69
第五章 結論與建議 79
5.1 結論 79
5.2 未來研究建議 79
參考文獻 81
參考文獻 [1]. 鄭傑仁(2007),超純水系統UV光去除微量TOC效率影響評估,交通大學工學院碩士在職專班永續環境科技組碩士論文
[2]. 謝重正 (2007),2B3T型離子交換樹脂之產水的藥劑成本合理化研究,中央大學工業管理研究所碩士在職專班碩士論文。
[3]. 周俊吉(2003),微機電實驗室建置工程之管理研究,成功大學工學院工程管理專班碩士論文。
[4]. 鄭為井(2007),小型純水系統之設計與性能分析,崑山科技大學機械工程研究所碩士論文。
[5]. 李偉文(2000),半導體廠房採購發包與施工規劃之研究-以新竹科學工業園區半導體相關廠房為例,台灣大學土木工程所碩士論文。
[6]. 李仲明(1998),快速興建半導體晶圓製造廠作法之研究,清華大學工業工程所碩士論文。
[7]. 邱健寶(2001),高科技產業建廠管理之個案研究-以薄膜電晶體液晶顯示器與半導體產業為例,交通大學管理科學學程碩士論文。
[8]. 吳家榮(2007),半導體製程設備裝機工程管理之研究—以t公司12吋晶圓廠為例,成功大學工學院工程管理專班碩士論文。
[9]. Christ Water Technology Group: Ultrapure Water System Introduction. 2007/06.
[10]. 奧璐佳瑙科技股份有限公司:超純水系統訓練教材。2008/04.
[11]. 兆聯實業股份有限公司:超純水系統操作手冊。2010/07.
[12]. 台灣日東電工股份有限公司 MEM營業部:薄膜應用技術說明資料(RO, UF)。2007/05
[13]. 旭化成株式會社 機能膜事業部:Training of UF Application for Microelectronics。2003/11
[14]. 井出哲夫 等著(1994),李圭白、馬中漢、張自杰 譯,水處理工程 理論與應用 上/下冊 三版,台北,科技圖書股份有限公司。
[15]. 丹保憲仁、小笠原紘一 著(2001),賴耿陽 譯,「淨水技術實務」,復漢出版社,台北,2001。
[16]. 徐文雄(1987),工業配管原理與實務,台北,全華科技圖書。
[17]. 羅欽煌(1998),工業配電,台北,全華科技圖書。
[18]. 林東清(2009),知識管理 三版,台北,智勝文化事業有限公司。
[19]. B. S. Blanchard (2004), “System Engineering Management” (3rd ed.), John Wiley & Sons, Inc., Hoboken, New Jersey
[20]. D. R. Sherwood and D. J. Whistance (1980), “The piping guide: a compact reference for the design and drafting of piping systems”, Syentek Books, Carmichael, CA
[21]. http://www.itrs.net/Links/2010ITRS/2010Update/ToPost/2010Tables_YieldEnhancement_CROSSCUT_B_ITRS.xls#'Notes YE7_2010'!A1,2011/06/30。
[22]. http://blog.sina.com.tw/paludarium/article.php?pbgid=40898&entryid=505523&comopen=1,2011/06/30。
[23]. http://www.mwhglobal.com.tw/s_kinmen/water_treatment.htm,2011/03/12。
[24]. http://www.4natureshome.com/uv_energy_UVV_ozone.html,2011/04/15。
[25]. http://www.liqui-cel.com/product-information/tour.cfm,2011/04/20。
[26]. http://www.membranes.co.il/technology/nanofiltration/,2011/04/20。
[27]. http://www.asahi-kasei.co.jp/membrane/microza/en/about_microza.html,2011/04/20。
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